반응형 친환경공정1 EUV 노광 기술의 중요성과 미래 전망 및 관련 기업 서론반도체 공정 기술이 나노미터 시대에 접어들면서 더욱 정밀한 회로 패턴 형성이 필수적으로 요구되고 있습니다. 이에 따라 EUV(Extreme Ultraviolet) 노광 기술은 첨단 공정에서 핵심적인 역할을 담당하며, 특히 7nm 이하 공정에서 없어서는 안 될 기술로 자리잡았습니다. 본 글에서는 EUV 노광 기술의 개념, 중요성, 직면한 도전 과제, 미래 전망, 그리고 관련 주요 기업에 대해 다룹니다.1. EUV 노광 기술이란?EUV 노광 기술은 파장이 약 13.5nm의 극자외선을 사용해 반도체 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 전사하는 기술입니다. 기존 DUV(Deep Ultraviolet) 노광 기술에 비해 파장이 훨씬 짧아 더 정밀한 패턴 형성이 가능합니다.EUV 기술의 핵심 특징단일 노광으로 미세 패.. 2025. 2. 23. 이전 1 다음 반응형
